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涂胶显影机设备厂家光刻的这点事儿

涂胶显影机设备厂家说说光刻的这点事儿:平面型晶体管和集成电路生产中的主要工艺,是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。


1. 涂胶显影设备


涂胶显影设备是利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工,与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为光刻机的输入即曝光前光刻胶涂覆和输出即曝光后图形的显影,涂胶显影机的性能不仅对细微曝光处的形成造成直接影响,而且其显影工艺的图形质量和误差控制对后续蚀刻、离子注入工艺中的图形转移结果也有着深刻的影响。


2. 光刻设备


通俗来说就是光刻机(Mask Aligner) ,又名掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备,需要掌握深厚的光学和电子工业技术,世界上只有少数厂家掌握,而且光刻机价格昂贵,通常在 3 千万至 5 亿美元。


3. 对准检测设备


对准检测设备主要用于光刻工艺中掩模板与晶圆的对准、芯片键合时芯片与基板的对准、表面组装工艺中元器件与PCB基板的对准,也应用于各种加工过程中,如晶圆测试、晶圆划片、各种激光加工工艺中等。精密检测技术是对准检测的基础,检测方法主要有光学检测法和光电检测法。

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