行业动态

湿法去胶机厂家浅谈涂胶显影设备

湿法去胶机厂家浅谈涂胶显影设备共分为四个方面：

（1）涂胶显影设备分类

涂胶和显影是光刻前后的重要步骤，设备以不同工艺所用的光刻胶、关键尺寸等方面的差异来分类。

（2）涂胶显影设备市场空间和格局

2021年全球前道涂胶显影设备销售额为 20亿美元，预计到 2022 年有望超过 25 亿美元。

（3）涂胶显影设备的行业和技术特点

显影的精度即为光刻的精度，因此涂胶显影设备对关键制程的形成也十分重要。

涂胶显影设备涉及机械、化学、热处理等多方面技术。

除了前道的 EUV 光刻带来的高端增量以外，相对低端后道封测、LED 制造等用的涂胶显影设备也存在市场增量。

（4）涂胶显影设备国内现状

用于前道晶圆制造的涂胶显影设备尚处于新进阶段，产品有发往上海华力、长江存 储、中心绍兴、上海积塔等多个客户验证，有部分产品通过验证并获得订单。目前的主要产品为用于后道先进封装和 LED 制造等的涂胶显影设备，产品进入主流大客户。