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涂胶显影机设备行业迎来新转机

  涂胶显影机设备是芯片制程中必不可少的处理设备,利用机械实现晶圆在各系统间的传输和加工,与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为光刻机的输入即曝光前光刻胶涂覆和输出即曝光后图形的显影,涂胶显影机的性能不仅对细微曝光处的形成造成直接影响,而且其显影工艺的图形质量和误差控制对后续蚀刻、离子注入工艺中的图形转移结果也有着深刻的影响。
  一方面,国内半导体行业的快速发展成为国产涂胶显影设备行业的内生动力,中国企业在半导体上的资本支出于2018年高达1100亿美元,首次突破1000亿美元,超过欧洲和日本企业半导体资本支出之和107亿美元。另一方面,中国在此次疫情中对内保生产、保民生,对外伸援手,努力填补全球产业链,彰显负责人大国形象,让社会各界更加信任中国制度下的供应链发展。
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