一种具有曝光功能的涂胶显影机

  一种具有曝光功能的涂胶显影机,集涂胶、曝光和显影功能于一体,至少包括涂胶单元、曝光单元、显影单元以及晶片承载装置,所述涂胶单元、曝光单元和显影单元通过具有固定、加热和旋转晶片功能的晶片承载装置作为载体,进行涂胶、曝光和显影的循环操作。所述具有曝光功能的涂胶显影机为一体机,提高了晶片生产的自动化程度,其可同时作业多片晶片,提高了晶片的生产效率。

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